真空烧结炉的应用，种类和选型
2018-05-11 21:30:31 来源：酷斯特
一、真空烧结炉的简介与选型指南：
-
真空烧结是指粉末、粉末压坯或者其他形式的物料在真空环境下，在适当的温度下受热，借助于原子迁移实现颗粒间的联结。烧结目的是使多孔的粉末压坯具有一定的结构和性能的合金。
-
真空烧结的优点：
2.1 真空烧结能够减少气氛中的有害成分（水、氧、氮及其他的杂质等）对物料的污染，避免出现脱碳、渗碳、还原、氧化和渗氮等一系列反应。。 真空环境是其他烧结形式所不具备的（当炉内真空度达到1.3*10-1帕斯卡时，炉内剩余气体相当于纯度为99.99987%氩气）；
2.2 真空烧结能够使物料在出现液相之前使颗粒氧化膜完全排除，从而改善了液相同碳化物相的湿润性，改善了合金组织结构，提高了合金性能；
2.3 由于真空环境下压坯孔隙内气体量的降低，气体产物更易排出孔隙以及溶于金属中气体的脱除，使物料的致密性更高；
2.4 真空烧结能够使材料的耐磨性及强度更高；
2.5 真空烧结对降低产品成本也有显著效果；
3、真空烧结炉的用途：
真空烧结炉主要用于粉末冶金制品、金属注射成型制品、不锈钢基、硬质合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、钕铁硼等的烧结。
-
真空烧结炉的分类
真空炉的分类主要有两种，：
*种是以温度分为普通烧结炉（1300℃及以下），中温烧结炉（1300℃~1600℃）、高温烧结炉（1600℃~2400℃）。
第二种是以真空度的高低来划分，可分为低真空、高真空和超高真空烧结炉。
-
真空炉的选型指南：
5.1 真空炉安装方式的选择：我公司研制的真空炉分为卧式及立式炉两种，立式炉又分为上出料及下出料结构。选择依据主要是烧结的产品类型、形状或摆放方式确定。
5.2 发热组件的选择：真空炉加热元件向工件的传热方式和普通电加热炉不同，以辐射传热为主。我公司生产的真空烧结炉的加热组件主要有镍铬、高温钼、石墨及石墨带（板）、钨带及钨网。镍铬主要应用在温度在1000℃以下的真空炉，高温钼可以应用在1600℃以下真空炉，石墨及石墨带（板）可以应用在2300℃以下真空炉，钨带及钨网可以应用在2400℃以下的真空炉。发热组件的选择主要依据烧结温度、产品的物理及化学特性而确定。
5.3 隔热屏的选择：隔热屏是真空烧结炉加热室的主要组成部分，其主要作用是隔热、保温及减少热损失，同时也是固定加热器的结构基础。因此，隔热屏结构形式及材料的选择，对真空炉的功率及性能（如真空度、放气率等）有很大的影响。隔热屏基本上分为金属隔热屏和非金属隔热屏两类。其结构形式分为全金属隔热屏、夹层式隔热屏、石墨毡隔热屏和混合毡隔热屏。隔热屏的选择主要依据烧结温度、产品的物理及化学特性和真空度要求而确定。
5.4 真空系统的选择：我公司常用的真空配置有以下几种，*种是低真空配置，配置为机械泵（旋片泵或滑阀泵），极限真空度可达10帕左右；第二种是中真空配置，配置罗茨泵和机械泵（旋片泵或滑阀泵）组合，极限真空度能达到2*10-1帕；第三种是高真空配置，一般配置为扩散泵+罗茨泵+机械泵（旋片泵或滑阀泵），极限真空度可达到2*10-3帕；第四种是涡轮分子泵+罗茨泵+机械泵（旋片泵或滑阀泵），极限真空度可达2*10-4帕。真空系统的选择主要依据工作真空度而确定。
5.5 冷却系统的选择：我公司设计制造的真空炉的冷却方式可分为自然冷却和强制冷却，强制冷却又分为内循环冷却和外循环冷却。充气介质一般为高纯氮气或氩气。
5.6 其他方面的选择：
5.6.1 可以选配高效的真空脱蜡/脱脂/除尘装置；
5.6.2 多种测温方式（K,S,B,WRe等热偶，红外测温）或组合选择；
5.6.3 可以设计成一拖二方式；
6、真空烧结炉的分类：
VGS系列通用真空烧结炉 VHS系列高温真空烧结炉
VPS系列加压真空烧结炉 VMP系列机械压力烧结炉
VEP系列等静压烧结炉 VMC系列多室连续真空烧结炉
用途及特点：
主要应用于特种陶瓷（碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅结合碳化硅等）、高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，更适用于碳化硅(SiSIC)制品的重结晶烧成工艺，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。该设备采用中频电源加热原理，有效避免了电阻内热真空炉的高温绝缘问题，因此在2000℃~2400℃的温度段相比电阻炉的有较大的优势。
配置选项：
立式或卧式炉膛；
高效的真空脱蜡/脱脂装置；
低压控制装置，满足特殊气氛工艺要求（如抑制合金元素的挥发）；
外循环冷却系统；
粉尘过滤器，有效保护真空泵；
扫一扫，手机浏览
河南酷斯特仪器科技有限公司联系热线
