酷斯特科技采用触摸屏进行操作任意设置区熔的温度双管区熔提纯炉 KQZ-20-11

酷斯特科技采用触摸屏进行操作任意设置区熔的温度双管区熔提纯炉 KQZ-20-11

详细信息

加工定制：是	品牌：酷斯特科技	型号：KQZ-20-11
功率：35 kw	最大电压：380 V	额定温度：1200 ℃
主要用途：提纯金属、半导体、有机和无机的化学材料

一·设备用途：

提纯金属、半导体、有机和无机的化学材料；
区熔致匀（使一种欲掺入的杂质十分均匀地分布在整个单晶体中）
焊接和测量液体中的扩散率等。

二·设备优点：

1·区熔加热炉采用往复区熔的方式，闭环温度控制，可靠的控制熔区的宽度问题；生长室的设计成功解决生长室的污染问题，
2·将加热及保温材料均设置在生长腔室外部，采用高纯石英作为腔室，同时抽真空；将流动高纯氢气通入腔室，去除腔室中的微量氧，解决氧化的问题；
3·开发高柔性的控制软件，采用触摸屏进行操作，任意设置区熔的温度，区熔的速度及次数。

三·主要技术参数

*高加热温度： 1200℃ 使用温度：500-1100℃
设备功率： ≤35Kw±10% 三相380v 50Hz（三相五线制）
感应电源功率： 20Kw±10% 三相380v 50Hz（三相五线制）频率≥400kHz。
红外加热功率： 2kw*2(暂定）
冷态极限真空度： ≤5×10^-⁴Pa
石墨舟尺寸： Ф70*200mm（外径*长度，半圆柱）
石英管（腔室）尺寸： ¢90*1500（根据实际情况做调整）
加热方式：高频感应加热

9·区熔行程及速度：位移行程 ≦1200mm
                    慢速：0.1-10mm/h（伺服控制）精度0.01mm
                快速：200mm/min（伺服控制）（空走或者后退）
10.炉内充气压力：    ≤0.03MPa（氩气）
11·充气系统：      自动充放气
12.区熔温区：       2温区
13.石英管法兰连接方式：真空水冷密封法兰形式，留KF25真空接口，法兰材质304不锈钢
14.控制方式：触摸屏+plc

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